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    當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  等離子清洗機(jī)  >  Anatech等離子刻蝕機(jī)  >  SCE-110Anatech ICP等離子刻蝕機(jī)

    Anatech ICP等離子刻蝕機(jī)

    簡要描述:MYCRO的SCE-110系列Anatech ICP等離子刻蝕機(jī)是用于等離子體灰化工藝的Z有效儀器。SCE-110等離子灰化機(jī)用于殘留無機(jī)物的掃描電鏡(SEM)和或化學(xué)分析之前的有機(jī)物去除。適用設(shè)備如:SCE-104, 106, 108。

    • 產(chǎn)品型號:SCE-110
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時間:2024-05-16
    • 訪  問  量:4337

    詳細(xì)介紹

    當(dāng)氣體暴露在電子區(qū)域時可以形成等離子體。如果該區(qū)域氣流足夠強(qiáng),高比例的氣體原子將服從電子或兩個成為已電離的。由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放的高能電子組成的氣體等離子或離子。已電離的氣體原子的動能相對較小,除非他們通過電場加速。加速時,他們會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。等離子體效應(yīng)的過程轉(zhuǎn)換成材料的蝕刻工藝?;钚詺怏w在分子級上的使用也產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。

    氣體等離子體類型:各向異性等離子體是有方向性的,由電氣控制一些具體的高能離子,或某個范圍的能量(見美國鋁框系統(tǒng))。

    各向同性等離子體是多方位和包含整個的3 D等離子的設(shè)備(見美國石英筒備系統(tǒng))。

    氣體等離子體處理了超過濕化學(xué)處理幾個優(yōu)點(diǎn)。液體的表面張力的現(xiàn)象消除,正如泡沫的形成,這可能會導(dǎo)致不*濕化。等離子蝕刻可以迅速結(jié)束,終止進(jìn)程,而液體蝕刻工藝很難準(zhǔn)確的結(jié)束。

    “綠色”的優(yōu)勢:無氟氯化碳和污水,操作和環(huán)境安全。排除有毒和腐蝕性的液體。等離子處理的主要缺點(diǎn)是較低的吞吐量。

    我們致力于氣體等離子處理,即讓氣體在常溫下,無熱相變下改變。這些氣體可以是惰性的,也可以是起反應(yīng)的。在反應(yīng)性氣體的情況下,利用動量轉(zhuǎn)移處理以及氣體反應(yīng)的化學(xué)性質(zhì)改變材料的特性。

    鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)Aluminum Chamber Plasma Systems

    SCE 14鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

    長寬高356毫米的立方體腔體

    外形尺寸559毫米 x 686毫米 x 915毫米 (w,d,h)

    SCE 18鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

    長寬高457毫米的立方體腔體

    外形尺寸 711毫米x 711毫米x 1651毫米(w,d,h)

    SCE 24鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

    長寬高610毫米的立方體腔體

    外形尺寸 864毫米 x 813毫米 x 1829毫米 (w,d,h) 

    SCE30鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)

    長寬高762毫米的立方體腔體

    外形尺寸915毫米x 915毫米x 1829毫米(w,d,h)

    石英滾筒等離子系統(tǒng)Quartz Barrel Plasma Systems

    4" diameter x 8" long  

    102毫米直徑 x 203毫米長腔體

    外形尺寸26" H x 23" W x 30" D  660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D

    SCE 106石英滾筒等離子處理系統(tǒng)

    6" diameter x 8"long

     152毫米直徑x 203毫米長腔體

    外形尺寸 26" H x 23" W x 30" D  660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D

    SCE108石英滾筒等離子處理系統(tǒng)

    8" diameter x 8"long 腔體

    203毫米直徑x203毫米長

    外形尺寸  26"H x 23"W x 30"D  660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D

    SCE110石英滾筒等離子處理系統(tǒng)

    10" dia x 18" L long 

    254毫米直徑x 457毫米長腔體

    外形尺寸36"H x 21"W x 30"D  914毫米Hx533毫米W x 762毫米 D

    SCE 115石英滾筒等離子處理系統(tǒng)

    10" dia x 18" L long 

    254毫米直徑x 457毫米長腔體  

    外形尺寸22" W x 36" H x 27" D   559毫米x914毫米H x 686毫米 D

    SCE150石英滾筒等離子處理系統(tǒng)

    10" dia x 18"L  2 4毫米直徑x 457毫米長腔體

    SCE 604石英滾筒等離子處理系統(tǒng)

    Four (4) chambers 4" x 8" diameter Quartz  

    4個腔體102毫米x203毫米直徑石英腔體

    玻璃等離子系統(tǒng)Tumbler Plasma Systems

    SCE 10等離子處理系統(tǒng)

    SCE 18等離子處理系統(tǒng)

    Aluminum Basket (457毫米 x 1016毫米)

    控制系統(tǒng)Control System

         PLC - "Touch-Panel" operation

    PLC  觸摸面板操作

         Digital count down timer (hrs, min, sec)

    數(shù)字倒計時定時器(小時,分,秒)

         Digital On-Screen vacuum display

    數(shù)碼屏幕真空顯示器

         Gas flow with needle valve control

    氣體流量針形閥控制

         Manual tuning standard

    手動校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)

         Optional: Automatic RF tuning for load match

         可選的:自動射頻調(diào)整與負(fù)載匹配

    反應(yīng)腔體Reactor Chamber

         4" diameter x 8" long quartz chamber

         4英寸直徑x8英寸長的石英艙體

         RF shielded

         射頻屏蔽

         Front load

         前負(fù)荷

    尺寸:Dimensions

         26" H x 23" W x 30" D

         26英寸Hx23英寸Wx30英寸D

         275 lbs Crated weight

         275包裝重量。

    射頻功率源RF Power Source

         0-150 Watt RF 13.56 MHz supply

         0-150 W射頻13.56兆赫茲供應(yīng)

         Forward and reflected power readings

         正向和反射功率讀數(shù)

         Low frequency optional

         低頻選項

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