當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 納米壓印光刻機(jī) > NIL系列 > PL400NIL納米壓印PL系列
簡要描述:EZ Imprinting推出了一款臺式獨(dú)立NIL納米壓印PL系列系統(tǒng):PL系列400/600.EZImprinting是一種超高產(chǎn)率(> 99%)納米壓印光刻系統(tǒng),帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。該平臺提供具有微定位夾具的機(jī)械平臺,用于安裝納米壓印室,UV固化源和對準(zhǔn)顯微鏡。它即可以作為納米壓印系統(tǒng),也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準(zhǔn)器,同時(shí)提供可編程的自動控制功能。
產(chǎn)品分類
相關(guān)文章
Related Articles詳細(xì)介紹
EZI UV Nanoimprint System PL400
特點(diǎn):
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率,產(chǎn)率高達(dá)99%
? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產(chǎn)量增大
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸,靈活方便
? 可編程PLC,通過自定義參數(shù)進(jìn)行過程控制,帶觸摸屏用戶界面
? 對準(zhǔn)功能選項(xiàng)
? 多種工藝,適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲,生物醫(yī)學(xué)器件,半導(dǎo)體IC,化學(xué)合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
EZ Imprinting處理器參數(shù):
基材尺寸: 4“標(biāo)準(zhǔn)(尺寸較小,形狀不規(guī)則)
印記區(qū) : 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 4”,2” and 1”
產(chǎn)品咨詢
歡迎您關(guān)注我們的微信公眾號了解更多信息