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簡(jiǎn)要描述:EZI UV NIL納米壓印機(jī)EZI 紫外曝光納米壓印系統(tǒng)EZ Imprinting推出了一款臺(tái)式獨(dú)立納米壓印系統(tǒng):PL系列400/600.EZImprinting是一種超高產(chǎn)率(> 99%)納米壓印光刻系統(tǒng),帶有低于10納米的分辨率和一步自動(dòng)釋放功能。
產(chǎn)品分類(lèi)
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特點(diǎn):
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率,產(chǎn)率高達(dá)99%
? 一步自動(dòng)釋放功能,可防止分離過(guò)程中模具/基材損壞,使壓印產(chǎn)量增大
? 支持各種類(lèi)型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸,靈活方便
? 可編程PLC,通過(guò)自定義參數(shù)進(jìn)行過(guò)程控制,帶觸摸屏用戶(hù)界面
? 對(duì)準(zhǔn)功能選項(xiàng)
? 多種工藝,適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲(chǔ),生物醫(yī)學(xué)器件,半導(dǎo)體IC,化學(xué)合成和*材料等
? 專(zhuān)有的紫外線(xiàn)固化納米壓印抗蝕劑對(duì)硬度或厚度沒(méi)有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
PL600
基材尺寸,6“標(biāo)準(zhǔn)(尺寸較小,形狀不規(guī)則)
印記區(qū): 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
壓印壓力: 1 psi標(biāo)準(zhǔn)
模具/基材自動(dòng)釋放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外線(xiàn)曝光時(shí)間:在95%強(qiáng)度水平下2-3分鐘
對(duì)準(zhǔn)功能: x,y,z和theta(精度2um)
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