簡要描述:介紹:M-HP熱板 200用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑大為8英寸的晶圓片或大6英寸 x6英寸的襯底。內置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數(shù)(溫度,加熱時間)可以隨時更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調節(jié)。可在1到999秒之間設置處理時間。
詳細介紹
產品參數(shù):
主營產品:
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應離子刻蝕機
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機
Novascan紫外臭氧清洗機
Nilt納米壓印機
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動壓片機
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