當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 切割設(shè)備 > 晶圓清洗機(jī) > WCS-200晶圓清洗機(jī)
簡(jiǎn)要描述:WCS-200專(zhuān)為切割后的晶圓清洗而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)有兩種配置:最大8英寸的晶圓和最大12英寸的晶圓。
產(chǎn)品分類(lèi)
相關(guān)文章
Related Articles詳細(xì)介紹
特點(diǎn):
· 高壓或霧化噴霧清洗
· 擁有觸摸屏界面
· 可重復(fù)過(guò)程的快速啟動(dòng)按鈕
· 自動(dòng)透明蓋
· CDA 和 N2 輸入傳感器
WCS-200專(zhuān)為切割后的晶圓清洗而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)有兩種配置:最大8英寸的晶圓和最大12英寸的晶圓。
晶圓清洗工藝通過(guò)觸摸屏進(jìn)行設(shè)置。 用戶(hù)可以通過(guò)4個(gè)步驟對(duì)多達(dá)50個(gè)程序段進(jìn)行編程:
· 沖洗
· 吹掃
· N2干燥
· 旋轉(zhuǎn)
每個(gè)步驟可設(shè)置不同的速度和時(shí)間參數(shù)。
技術(shù)參數(shù):
晶圓最大尺寸 | 8"/12"mm |
晶圓清洗參數(shù): · 速度; · 加速度; · 清洗時(shí)間; · 沖洗時(shí)間; · N2干燥時(shí)間; | |
轉(zhuǎn)速范圍 | 500-3000 rpm |
電源電壓 | 230VAC 50Hz 5A |
CDA供給壓力 | 0.5-0.6 MPa |
CDA 最大消耗量 | 3 m3/h |
CDA 連接管 | 6 mm |
去離子水 供給壓力 | 0.2-0.3 MPa |
去離子水最大消耗量 | 100 L/h |
去離子水連接管 | 6 mm |
真空供應(yīng) | 0.02-0.04 MPa |
真空連接管 | 6 mm |
排氣連接管 | 50 mm |
尺寸 | 900x780x1280 mm |
重量 | 110 kg |
產(chǎn)品咨詢(xún)
歡迎您關(guān)注我們的微信公眾號(hào)了解更多信息