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簡(jiǎn)要描述:DME-220 專(zhuān)為切割后的晶圓擴(kuò)展而設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)一致的芯片分離距離。晶圓擴(kuò)展使拾取操作更容易并防止邊緣碎裂。
產(chǎn)品分類(lèi)
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模具矩陣擴(kuò)展器 DME-220
DME-220 專(zhuān)為切割后的晶圓擴(kuò)展而設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)一致的芯片分離距離。晶圓擴(kuò)展使拾取操作更容易并防止邊緣碎裂。
產(chǎn)品特征:
· 處理最大 8" 的晶圓
· 可調(diào) 75 mm 行程的電機(jī)驅(qū)動(dòng)柱塞
· 可調(diào)節(jié)沖頭速度
· 均勻的晶圓向各個(gè)方向擴(kuò)展
· 電動(dòng)切膜系統(tǒng)
· 工作臺(tái)可加熱至 75 ℃
· 簡(jiǎn)單的操作和維護(hù)
技術(shù)參數(shù):
晶圓最大尺寸 | 8" |
柱塞最大行程 | 75 mm |
工作臺(tái)最高溫度 | 75 ℃ |
電源電壓 | 230VAC 50Hz 10A |
尺寸 | 540x380x180 mm |
重量 | 45 kg |
主營(yíng)產(chǎn)品:
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺(tái)
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)
產(chǎn)品咨詢(xún)
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